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Ligne photosensible de Smt de solvant de colle équipement pour la libération MT-4100C de film

Ligne photosensible de Smt de solvant de colle équipement pour la libération MT-4100C de film

Ligne photosensible équipement de Smt de solvant de colle

Ligne de Smt équipement pour la libération de film

Lieu d'origine:

LA CHINE

Nom de marque:

INFINITE™

Numéro de modèle:

MT-4100C

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Détails du produit
Application:
Développement automatique et libération automatique de film
marque:
INFINITE™
modèle:
MT-4100C
Conception:
Pompe hydraulique électrique de haute qualité pour fournir le jet à haute pression lavant, se dévelo
Caractéristiques:
Les différentes procédures correspondent à la couche mince, au développement de couche épaisse, et à
Précision:
Exactitude élevée de libération de développement et de film
Matériel de corps:
Acier inoxydable
Fiabilité:
Industriel-catégorie
Emballage:
CAISSE EN BOIS
Mettre en évidence:

Ligne photosensible équipement de Smt de solvant de colle

,

Ligne de Smt équipement pour la libération de film

Conditions de paiement et d'expédition
Quantité de commande min
1 unité
Détails d'emballage
Caisse
Conditions de paiement
L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Description du produit

La machine automatique de développement et de dépouillement de colle de MT-4100C d'écran photosensible de solvant est conçue pour le retrait automatique de la colle photosensible résiduelle après exposition de film ou la fabrication de plat de laser. La machine automatique de développement et de dépouillement d'écran de MT-4100C est machinée pour fournir la bonne qualité et pour enlever automatiquement la colle photosensible excédentaire après le processus d'électrodéposition de laser et pour libérer automatiquement le film. Cette machine est capable du retrait automatique de la colle photosensible résiduelle après exposition de film. La machine de développement et de dépouillement de MT-4100C est équipée d'une pompe hydraulique électrique de haute qualité qui fournit le lavage à haute pression de jet utilisé pour se développer ou version de film.

Fonction :

1. Développement automatique : retrait automatique de colle photosensible résiduelle après exposition de film ou la fabrication de plat de laser.

Méthode de travail : La machine pulvérise automatiquement l'écran impression après le rinçage double face, de sorte que les graphiques imprimés puissent apparaître automatiquement ; doubles les barres avant et arrière de jet sont employées pour la pulvérisation d'uniforme ; la pression et le temps de jet peuvent être ajustés pour réaliser le développement parfait.

2. Libération automatique de film : Après que l'écran soit utilisé, la colle photosensible sur la surface de l'écran est automatiquement enlevée pour devenir un écran vide et encore employée.

Mode fonctionnant : La machine pulvérise automatiquement l'écran d'impression d'écran après le trempage des deux côtés pour enlever la colle photosensible ; utilisant l'avant et les doubles barres arrière de jet, l'avant à haute pression, et le jet arrière ; de la pression de jet, temps peut être ajustée, et la vitesse de libération de film est rapide.

Caractéristiques :

1. Pompe hydraulique électrique de haute qualité pour fournir le jet à haute pression lavant, se développant, ou libération de film.

2. La structure entière est faite d'acier inoxydable, qui est résistant à l'acide et la corrosion et les biens d'alcali.

3. l'opération d'Un-bouton, le développement ou le dépouillement est automatiquement accomplie en même temps selon le programme réglé.

4. Équipé d'un mécanisme de contrôle de niveau liquide, il s'ajoutera automatiquement quand le niveau de l'eau est bas, et s'arrête automatiquement quand le niveau d'eau est atteint.

5. Équipé d'un système de contrôle de pompage anti-sec pour protéger automatiquement la pompe hydraulique quand le volume de l'eau est insuffisant.

6. La machine est complètement scellée en pulvérisant et en se développant ou le dépouillement, maintenant l'environnement d'atelier propre et rangé.

7. Le liquide se développant de l'eau ou de libération peut l'eau être réutilisé, économisé et des émissions de réduction.

8. Contrôleur modulaire, faciles à réparer et maintenir.

9. Les différentes procédures correspondent à la couche mince, au développement de couche épaisse, et à la libération.

Caractéristiques de machine :

Spécifications de MT-4100C

Taille de l'écran maximum : L1000 * W1000 *H40 (millimètre)

Capacité de réservoir : 120L

Temps de développement/libération : 1~4min

Temps de séchage : 1~2min

Volume de flux d'air : 800~1000L/min

Source de gaz : 0.5~0.7Mpa

Taille de port d'échappement : Φ125 × H30 (millimètre)

Système de filtrage : 20um

Source de gaz : 0.5~0.7Mpa

Alimentation d'énergie : AC380V, 50HZ, 4KW

Taille de machine : L1750 *W1550 * H 2000 (millimètre)

Poids de machine : 780KG

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